低速イオン注入複合分子線エピタキシによる単結晶シリコン・酸化物量子構造の形成

書誌事項

低速イオン注入複合分子線エピタキシによる単結晶シリコン・酸化物量子構造の形成

研究代表者、深津晋

深津晋, 2000.3

タイトル別名

平成10年度〜平成11年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書

文部省科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書

タイトル読み

テイソク イオン チュウニュウ フクゴウ ブンシセン エピタキシ ニヨル タンケッショウ シリコン サンカブツ リョウシ コウゾウ ノ ケイセイ

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注記

研究分担者: 谷由加里、川本清

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA49299344
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpneng
  • 出版地
    [東京]
  • ページ数/冊数
    1冊
  • 大きさ
    30cm
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