低速イオン注入複合分子線エピタキシによる単結晶シリコン・酸化物量子構造の形成

著者

• 深津, 晋 フカツ, ススム

書誌事項

低速イオン注入複合分子線エピタキシによる単結晶シリコン・酸化物量子構造の形成

研究代表者、深津晋

深津晋, 2000.3

タイトル別名

平成10年度〜平成11年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書

文部省科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書

タイトル読み

テイソク イオン チュウニュウ フクゴウ ブンシセン エピタキシ ニヨル タンケッショウ シリコン サンカブツ リョウシ コウゾウ ノ ケイセイ

注記

研究分担者: 谷由加里、川本清

• NII書誌ID(NCID): BA49299344
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpneng
• 出版地: [東京]
• ページ数/冊数: 1冊
• 大きさ: 30cm