レーザドロプレットエピタクシ法による高品質電子材料薄膜の作製
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レーザドロプレットエピタクシ法による高品質電子材料薄膜の作製
(科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書, 平成10年度〜平成11年度)
[森本章治], 2000.3
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レーザ ドロプレット エピタクシ-ホウ ニ ヨル コウ-ヒンシツ デンシ ザイリョウ ハクマク ノ サクセイ
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注記
課題番号 : 10450006