Chemical vapor deposition

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Chemical vapor deposition

edited by Jong-Hee Park, T.S. Sudarshan

（Surface engineering series, v. 2）

ASM International, 2001

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA53295915
  • ISBN
    • 0871707314
  • LCCN
    01022339
  • 出版国コード
    us
  • タイトル言語コード
    eng
  • 本文言語コード
    eng
  • 出版地
    Materials Park, Oh.
  • ページ数/冊数
    vii, 481 p.
  • 大きさ
    26 cm
  • 分類
  • 件名
  • 親書誌ID
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