界面制御によるシリコン基板上への強誘電体薄膜のヘテロエピタキシャル成長/ 研究代表者 堀田將

著者

• 堀田, 將 ホリタ, ススム

書誌事項

界面制御によるシリコン基板上への強誘電体薄膜のヘテロエピタキシャル成長/ 研究代表者 堀田將

[堀田將], 1999.4

タイトル別名

平成9年度〜10年度科学研究費補助金(基礎研究(B))研究成果報告書

タイトル読み

カイメン セイギョ ニヨル シリコン キバンジョウ エノ キョウ ユウデンタイ ハクマク ヘテロエピタキシャル セイチョウ

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA54035625
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpneng
• 出版地: [辰口町(石川県)]
• ページ数/冊数: 1冊
• 大きさ: 30cm