プラズマ/プロセスの原理

Author(s)

• Lieberman, M. A. (Michael A.)
• Lichtenberg, Allan J.

Bibliographic Information

プラズマ/プロセスの原理

Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg著 ; 佐藤久明訳

EDリサーチ社, 2001.11

Other Title

Principles of plasma discharges and materials processing

Title Transcription

プラズマ プロセス ノ ゲンリ

Note

監修 堀勝

参考文献: p419-423

Details

• NCID: BA54690460
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpn
• Original Language Code: eng
• Place of Publication: 東京
• Pages/Volumes: xxi, 430p
• Size: 26cm
• Classification:
  • NDC8 : 427.6
  • LCC : QC718.5.D9
  • DC20 : 530.4/4
• Subject Headings:
  • LCSH : Plasma dynamics
  • LCSH : Thin films -- Surfaces
  • LCSH : Plasma etching
  • LCSH : Plasma chemistry