プラズマ/プロセスの原理

著者

• Lieberman, M. A. (Michael A.)
• Lichtenberg, Allan J.

書誌事項

プラズマ/プロセスの原理

Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg著 ; 佐藤久明訳

EDリサーチ社, 2001.11

タイトル別名

Principles of plasma discharges and materials processing

タイトル読み

プラズマ プロセス ノ ゲンリ

注記

監修 堀勝

参考文献: p419-423

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA54690460
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 原本言語コード: eng
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: xxi, 430p
• 大きさ: 26cm
• 分類:
  • NDC8 : 427.6
  • LCC : QC718.5.D9
  • DC20 : 530.4/4
• 件名:
  • LCSH : Plasma dynamics
  • LCSH : Thin films -- Surfaces
  • LCSH : Plasma etching
  • LCSH : Plasma chemistry