はじめての半導体洗浄技術
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はじめての半導体洗浄技術
（ビギナーズブックス, 23）
工業調査会, 2002.3
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ハジメテ ノ ハンドウタイ センジョウ ギジュツ
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参考文献: 各章末
Description and Table of Contents
Description
超ＬＳＩはクリーンネスとの闘いである。どんなにすぐれた設計・プロセス技術を用いても、プロセス、環境面でのクリーン化技術に問題点があるようでは期待通りの超ＬＳＩは生まれない。その技術の一つに洗浄技術がある。本書では半導体洗浄技術の全貌について、技術の位置づけ、歴史、基礎的事項、具体的手法、評価法、今後の展望までを詳細に解説している。
Table of Contents
- 第１章 シリコン集積回路と洗浄技術の概略史
- 第２章 ウェハ上の汚染物および表面状態がデバイスへ及ぼす影響
- 第３章 従来の洗浄技術—ＲＣＡ洗浄法を中心に
- 第４章 ウェハ表面への汚染物の付着およびその洗浄機構
- 第５章 新しい洗浄法—脱ＲＣＡ洗浄を目指して
- 第６章 ウェット洗浄装置
- 第７章 ドライ洗浄法
- 第８章 ウェハ表面の汚染物の評価方法
- 第９章 洗浄技術の課題と今後の展望
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