次世代超高密度デバイス用極薄絶縁膜の開発

Author(s)

    • 尾嶋正治 オシマ, マサハル

Bibliographic Information

次世代超高密度デバイス用極薄絶縁膜の開発

研究代表者 尾嶋正治

尾嶋正治, 2001.3

Other Title

平成10年度〜平成12年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書

文部省科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書

Title Transcription

ジセダイ チョウ コウミツド デバイスヨウ ゴクウス ゼツエンマク ノ カイハツ

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Note

研究者: 藤岡洋,小野寛太,大渕博宣

Details

  • NCID
    BA56290940
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    engjpn
  • Place of Publication
    [東京]
  • Pages/Volumes
    1冊
  • Size
    29cm
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