VLSIプロセス技術 : 高歩留りのための問題点とその解決
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VLSIプロセス技術 : 高歩留りのための問題点とその解決
日刊工業新聞社, 2002.3
第2版
- タイトル読み
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VLSI プロセス ギジュツ : コウブドマリ ノ タメ ノ モンダイテン ト ソノ カイケツ
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注記
監修: 垂井康夫
文献: 章末
内容説明・目次
内容説明
本書では、ＮＴＴにおける０．８〜０．５μｍプロセス開発で発生したプロセストラブルを主体に具体的事例を系統的に示すとともに、プロセス技術改良に寄与するＬＳＩの故障解析技術について、現状も含めて一般的に述べた。
目次
- 第１章 ＬＳＩプロセス技術の概要
- 第２章 フォトリソグラフィ工程
- 第３章 基板工程
- 第４章 配線工程
- 第５章 ダスト・汚染
- 第６章 故障解析技術
- 第７章 後工程
- 第８章 製造プロセス技術の評価と検討
- 第９章 これからに向けて
「BOOKデータベース」 より