「高度化軟X線光源の表面化学への新展開 : 静的表面から動的表面・界面へ」 : プロシーディングス

Author(s)

• 横山, 利彦 ヨコヤマ, トシヒコ
• 大内, 幸雄 オオウチ, ユキオ
• 吉信, 淳 ヨシノブ, ジュン
• 間瀬, 一彦 マセ, カズヒコ
• 高エネルギー加速器研究機構 コウ エネルギー カソクキ ケンキュウ キコウ

Bibliographic Information

「高度化軟X線光源の表面化学への新展開 : 静的表面から動的表面・界面へ」 : プロシーディングス

横山利彦, 大内幸雄, 吉信淳, 間瀬一彦

（KEK proceedings, 2001-13 . フォトンファクトリー研究会||フォトン ファクトリー ケンキュウカイ）

High Energy Accelerator Research Organization, 2001.6

Other Title

フォトンファクトリー研究会 「高度化軟X線光源の表面化学への新展開 : 静的表面から動的表面・界面へ」 : プロシーディングス

Title Transcription

コウドカ ナンXセン コウゲン ノ ヒョウメン カガク エノ シンテンカイ : セイテキ ヒョウメン カラ ドウテキ ヒョウメン カイメン エ プロシーディングス

Note

2001年3月22-23日

Details

• NCID: BA57320366
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpn
• Place of Publication: Tsukuba
• Pages/Volumes: 81p
• Size: 30cm
• Parent Bibliography ID:
  • BA13667297