書誌事項

「高度化軟X線光源の表面化学への新展開 : 静的表面から動的表面・界面へ」 : プロシーディングス

横山利彦, 大内幸雄, 吉信淳, 間瀬一彦

(KEK proceedings, 2001-13 . フォトンファクトリー研究会||フォトン ファクトリー ケンキュウカイ)

High Energy Accelerator Research Organization, 2001.6

タイトル別名

フォトンファクトリー研究会 「高度化軟X線光源の表面化学への新展開 : 静的表面から動的表面・界面へ」 : プロシーディングス

タイトル読み

コウドカ ナンXセン コウゲン ノ ヒョウメン カガク エノ シンテンカイ : セイテキ ヒョウメン カラ ドウテキ ヒョウメン カイメン エ プロシーディングス

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注記

2001年3月22-23日

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA57320366
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    Tsukuba
  • ページ数/冊数
    81p
  • 大きさ
    30cm
  • 親書誌ID
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