反応性エピタキシャル成長によるCoSi2/Si(100)ヘテロ構造形成の研究

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Bibliographic Information

反応性エピタキシャル成長によるCoSi2/Si(100)ヘテロ構造形成の研究

財満鎭明[ほか著]

[出版者不明], 2002.3

Other Title

平成11年度〜13年度科学研究費補助金(基盤研究B2)研究成果報告書

Title Transcription

ハンノウセイ エピタキシャル セイチョウ ニヨル CoSi2/Si(100) ヘテロ コウゾウ ケイセイ ノ ケンキュウ

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Note

課題番号:11450010

研究分担者: 安田幸夫, 池田浩也

Details

  • NCID
    BA58283119
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    [出版地不明]
  • Pages/Volumes
    110p
  • Size
    30cm
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