新しいレジスト材料とナノテクノロジー

Author(s)

• 山岡, 亜夫 ヤマオカ, ツグオ

Bibliographic Information

新しいレジスト材料とナノテクノロジー

シーエムシー出版, 2002.9

Other Title

New polymer resist and nano technology

Title Transcription

アタラシイ レジスト ザイリョウ ト ナノテクノロジー

Note

監修: 山岡亞夫

Details

• NCID: BA59535465
• ISBN:
  • 4882313677
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpn
• Place of Publication: 東京
• Pages/Volumes: vi,253p
• Size: 27cm
• Classification:
  • NDC8 : 549.7
  • NDC9 : 549.7
• Subject Headings:
  • BSH : リソグラフィー
  • BSH : ナノテクノロジー