フォトポリマーの基礎と応用

著者

• 山岡, 亜夫 ヤマオカ, ツグオ

書誌事項

フォトポリマーの基礎と応用

山岡亜夫監修

（CMCテクニカルライブラリー, 136）

シーエムシー出版, 2003.3

普及版

タイトル別名

Proceses and applications of photopolymers

実用高分子レジスト材料の新展開

タイトル読み

フォトポリマー ノ キソ ト オウヨウ

注記

「実用高分子レジスト材料の新展開」 (シーエムシー出版 1997年刊) の再版

内容説明・目次

目次

• 第１編　フォトポリマーの科学（フォトポリマーの基礎；光機能材料を支えるフォトケミストリー　ほか）
• 第２編　レジスト材料の最新応用技術（金属エッチング用レジスト；フォトファブリケーション用レジスト　ほか）
• 第３編　ディスプレイとフォトポリマー（カラーフィルター；ＵＶ硬化樹脂の位相差フィルム（ＬＣＤ））
• 第４編　フォトポリマーの新展開（表面光反応と表面機能化；広がりゆく応用　ほか）

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA61571778
• ISBN:
  • 4882317877
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: vii, 336p
• 大きさ: 21cm
• 分類:
  • NDC8 : 578.4
  • NDC9 : 578.4
• 件名:
  • BSH : 感光性樹脂
• 親書誌ID:
  • BA49949541