静電噴霧沈着法による組成及び膜構造の制御された無機薄膜の製造装置開発

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書誌事項

静電噴霧沈着法による組成及び膜構造の制御された無機薄膜の製造装置開発

研究代表者 大谷吉生

(科学研究費補助金(基盤研究(B)(1))研究成果報告, 平成11年度~平成13年度)

[大谷吉生], 2002.3

タイトル読み

セイデン フンム チンチャクホウ ニ ヨル ソセイ オヨビ マク コウゾウ ノ セイギョサレタ ムキ ハクマク ノ セイゾウ ソウチ カイハツ

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注記

課題番号 : 11555206

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA61855185
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    [金沢]
  • ページ数/冊数
    72枚
  • 大きさ
    30cm
  • 親書誌ID
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