制限反応スパッタ製膜法による高誘電率YSZ絶縁膜の研究
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制限反応スパッタ製膜法による高誘電率YSZ絶縁膜の研究
（科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書, 平成13年度～平成14年度）
[佐々木公洋], 2003.6
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セイゲン ハンノウ スパッタ セイマクホウ ニ ヨル コウユウデンリツ YSZ ゼツエンマク ノ ケンキュウ
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課題番号 : 13650338