IV族半導体の極薄酸化膜の界面評価に関する研究

Author(s)

• 吉田, 貞史 ヨシダ, サダフミ

Bibliographic Information

IV族半導体の極薄酸化膜の界面評価に関する研究

研究代表者 吉田貞史

（科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書, 平成13年度-平成14年度）

[吉田貞史], 2003.3

Title Transcription

IVゾク ハンドウタイ ノ キョクハク サンカマク ノ カイメン ヒョウカ ニ カンスル ケンキュウ

Note

研究課題番号13450120

• NCID: BA63513444
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpneng
• Place of Publication: [さいたま]
• Pages/Volumes: 1冊
• Size: 30cm
• Parent Bibliography ID:
  • BA30193701