紫外光励起を利用したシリコン基板へのエピタキシャル絶縁膜形成の基礎研究

Author(s)

• 中村, 哲郎 ナカムラ, テツロウ

Bibliographic Information

紫外光励起を利用したシリコン基板へのエピタキシャル絶縁膜形成の基礎研究

研究代表者 中村哲郎

（科学研究費補助金(一般研究(B))研究成果報告書, 昭和62年度）

中村哲郎, 1988.3

Other Title

昭和62年度科学研究費補助金(一般研究B)研究成果報告書

Title Transcription

シガイコウ レイキ オ リヨウシタ シリコン キバン エノ エピタキシャル ゼツエンマク ケイセイ ノ キソ ケンキュウ

Note

研究課題番号: 61460124

Details

• NCID: BA64063900
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: eng
• Place of Publication: [豊橋]
• Pages/Volumes: 51p
• Size: 26cm
• Classification:
  • NDC8 : 549.8
• Parent Bibliography ID:
  • BN0345591X