ヘテロエピタキシャルダイヤモンド薄膜の合成と新規半導体化プロセスの開発

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ヘテロエピタキシャルダイヤモンド薄膜の合成と新規半導体化プロセスの開発

研究代表者 諸岡成治

（科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書, 平成7年度〜平成8年度）

[九州大学], 1997.2

Other Title

平成7年度〜平成8年度科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書 07555240

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ヘテロ エピタキシャル ダイヤモンド ウスマク ノ ゴウセイ ト シンキ ハンドウタイカ プロセス ノ カイハツ

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研究分担者:草壁克己ほか

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Details

  • NCID
    BA67942599
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [福岡]
  • Pages/Volumes
    90p
  • Size
    30cm
  • Parent Bibliography ID
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