シリコン熱酸化の界面素過程に関する理論的研究 Theoretical studies on the basic processes of Si Thermal Oxydation

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シリコン熱酸化の界面素過程に関する理論的研究 = Theoretical studies on the basic processes of Si Thermal Oxydation

白石賢二研究代表者

（科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書, 平成14-15年度）

白石賢二, 2004.5

Title Transcription

シリコン ネツサンカ ノ カイメン ソカテイ ニ カンスル リロンテキ ケンキュウ

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Note

研究課題番号: 14550020

研究代表者: 白石賢二

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Details

  • NCID
    BA68545470
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [つくば]
  • Pages/Volumes
    1冊
  • Size
    30cm
  • Parent Bibliography ID
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