機器導体部のプラズマCVD絶縁膜 (CxFy高分子) によるSF[6]ガス代替絶縁

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機器導体部のプラズマCVD絶縁膜 (CxFy高分子) によるSF[6]ガス代替絶縁

研究代表者 酒井洋輔

（科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書, 平成15年度〜平成16年度）

[北海道大学大学院工学研究科], 2005.3

Title Transcription

キキ ドウタイブ ノ プラズマ CVD ゼツエンマク CxFy コウブンシ ニヨル SF[6] ガス ダイタイ ゼツエン

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[6]は下付き文字

課題番号: 15360143

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Details

  • NCID
    BA73691675
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    engjpn
  • Place of Publication
    [札幌]
  • Pages/Volumes
    1冊
  • Size
    30cm
  • Parent Bibliography ID
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