全エピタキシャル金属/絶縁体積層構造形成とデバイスの研究

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全エピタキシャル金属/絶縁体積層構造形成とデバイスの研究

山田公研究代表

[山田公], 1995.3

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平成4〜6年度科学研究費補助金一般研究(B)研究成果報告書 : 課題番号 04452202

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ゼンエピタキシャル キンゾク ゼツエンタイ セキソウ コウゾウ ケイセイ ト デバイス ノ ケンキュウ

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Note

京都大学工学部附属イオン工学実験施設

Details

  • NCID
    BA74115793
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    engjpn
  • Place of Publication
    [京都]
  • Pages/Volumes
    174p
  • Size
    30cm
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