ナノプロセスに本格突入した次世代ラインの全貌
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ナノプロセスに本格突入した次世代ラインの全貌
(半導体工場ハンドブック, 2006)
産業タイムズ社, 2005.12
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ナノ プロセス ニ ホンカク トツニュウ シタ ジセダイ ライン ノ ゼンボウ
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Description and Table of Contents
Description
ナノプロセスに本格突入した次世代ラインの全貌。
Table of Contents
- 第1部 新世代技術に挑む次世代半導体工場(2005〜2006年半導体業界展望;国内における半導体前工程工場の新増設計画 ほか)
- 第2部 新技術・材料・プロセスに挑む装置・材料メーカー動向(リソグラフィー関連装置・材料の動向;フォトマスクおよび関連装置の動向 ほか)
- 第3部 工場ルポ2005 次世代デバイスに挑む国内半導体工場(NEC山形;東北セミコンダクタ ほか)
- 第4部 半導体工場分布図・ディレクトリー(半導体工場分布図(地域別);台湾半導体工場マップ ほか)
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