ナノプロセスに本格突入した次世代ラインの全貌
著者
書誌事項
ナノプロセスに本格突入した次世代ラインの全貌
（半導体工場ハンドブック, 2006）
産業タイムズ社, 2005.12
- タイトル読み
-
ナノ プロセス ニ ホンカク トツニュウ シタ ジセダイ ライン ノ ゼンボウ
大学図書館所蔵 件 / 全8件
-
該当する所蔵館はありません
- すべての絞り込み条件を解除する
この図書・雑誌をさがす
内容説明・目次
内容説明
ナノプロセスに本格突入した次世代ラインの全貌。
目次
- 第１部 新世代技術に挑む次世代半導体工場（２００５〜２００６年半導体業界展望；国内における半導体前工程工場の新増設計画 ほか）
- 第２部 新技術・材料・プロセスに挑む装置・材料メーカー動向（リソグラフィー関連装置・材料の動向；フォトマスクおよび関連装置の動向 ほか）
- 第３部 工場ルポ２００５ 次世代デバイスに挑む国内半導体工場（ＮＥＣ山形；東北セミコンダクタ ほか）
- 第４部 半導体工場分布図・ディレクトリー（半導体工場分布図（地域別）；台湾半導体工場マップ ほか）
「BOOKデータベース」 より