光放射圧制御ナノCMP加工装置の開発

著者

• 三好, 隆志 ミヨシ, タカシ

書誌事項

光放射圧制御ナノCMP加工装置の開発

研究代表者 三好隆志

[三好隆志], 2004.3

タイトル別名

平成13年度〜平成15年度科学研究費補助金(基盤研究A(2))研究成果報告書

タイトル読み

ヒカリ ホウシャアツ セイギョ ナノ CMP カコウ ソウチ ノ カイハツ

注記

研究課題番号: 13355006

参考文献: p104-107

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA75596198
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpneng
• 出版地: [吹田]
• ページ数/冊数: iii, ii, 107p
• 大きさ: 30cm