有機金属分子イオンビーム技術の高度化とSiCヘテロエピ成膜への応用

Author(s)

    • 後藤, 誠一 ゴトウ, セイイチ

Bibliographic Information

有機金属分子イオンビーム技術の高度化とSiCヘテロエピ成膜への応用

研究代表者 後藤誠一

[後藤誠一], 2003.3

Other Title

平成13〜14年度科学研究費補助金基盤研究(B)(2)研究成果報告書

Title Transcription

ユウキ キンゾク ブンシ イオン ビーム ギジュツ ノ コウドカ ト SiC ヘテロエピ セイマク エノ オウヨウ

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Note

研究課題番号: 13558055

Details

  • NCID
    BA75738113
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [吹田]
  • Pages/Volumes
    83p
  • Size
    30cm
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