ステップ配列制御による完全ステップフリーシリコン/酸化膜界面の形成と評価

Author(s)

    • 須藤, 孝一 スドウ, コウイチ

Bibliographic Information

ステップ配列制御による完全ステップフリーシリコン/酸化膜界面の形成と評価

研究代表者 須藤孝一

[須藤孝一], 2002.3

Other Title

平成12年度〜平成13年度科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書

Title Transcription

ステップ ハイレツ セイギョ ニヨル カンゼン ステップ フリー シリコン サンカマク カイメン ノ ケイセイ ト ヒョウカ

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Note

課題番号: 12650029

Details

  • NCID
    BA76045382
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [茨木]
  • Pages/Volumes
    1冊
  • Size
    30cm
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