超高周波フォノンによるシリコン中の酸化誘起積層欠陥に関する研究
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書誌事項
超高周波フォノンによるシリコン中の酸化誘起積層欠陥に関する研究
(科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書, 平成8-10年度)
[九州工業大学], 1999.3
- タイトル別名
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平成8年度〜平成10年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書
- タイトル読み
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チョウコウシュウハ フォノン ニヨル シリコンチュウ ノ サンカ ユウキ セキソウ ケッカン ニ カンスル ケンキュウ
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注記
課題番号: 08455149
研究分担者: 浅野種正,. 孫勇