液浸リソグラフィのプロセスと材料 Process and ingredient of immersion lithography

著者

    • 東木, 達彦 ヒガシキ, タツヒコ

書誌事項

液浸リソグラフィのプロセスと材料 = Process and ingredient of immersion lithography

東木達彦監修 = supervisor, Tatsuhiko Higashiki

シーエムシー出版, 2006.10

タイトル別名

エレクトロニクス材料・技術シリーズ

タイトル読み

エキシン リソグラフィ ノ プロセス ト ザイリョウ

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注記

文献: 各章末

カバーに「エレクトロニクス材料・技術シリーズ」の表記あり

内容説明・目次

目次

  • 液浸リソグラフィーとは
  • 液浸露光用塗布現像装置
  • レチクル技術
  • 液浸リソグラフィの光学系
  • 液浸露光装置の開発
  • 液浸用レジストの開発
  • 液浸用トップコート材料
  • 液浸レジスト材料の評価
  • 含フッ素樹脂のリソグラフィ分野への応用
  • 偏光照明技術
  • 高NA投影レンズの開発
  • 次世代液浸露光用高屈折率液体の開発
  • 次世代液浸リソグラフィの光学系
  • 32mmハーフピッチに向けた今後のリソグラフィ展開

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA79534578
  • ISBN
    • 488231584X
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    v, 243p
  • 大きさ
    27cm
  • 分類
  • 件名
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