不揮発性メモリの実現に向けた高誘電率キャパシタ材料の低温形成
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不揮発性メモリの実現に向けた高誘電率キャパシタ材料の低温形成
[光田好孝], 2006.3
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平成13年度〜平成15年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2)(展開))研究成果報告書
科学研究費補助金(基盤研究(B)(2)(展開))研究成果報告書
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フキハツセイ メモリ ノ ジツゲン ニ ムケタ コウユウデンリツ キャパシタ ザイリョウ ノ テイオン ケイセイ
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Institute of Industrial Science Library, the University of Tokyo図書
X-08.IIS:科研2003:03-5236711254265
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Note
課題番号: 13455194
研究分担者: 小田克郎