A study on degradation mechanisms of thin silicon dioxide films

著者

    • Kenji Komiya

書誌事項

A study on degradation mechanisms of thin silicon dioxide films

Kenji Komiya

Kenji Komiya, 2005

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注記

Privately printed

学位論文:関西大学 博士(工学) 甲第181号 平成17.3.31

Includes bibliographical references

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA80925663
  • タイトル言語コード
    eng
  • 本文言語コード
    eng
  • 出版地
    S.l.
  • ページ数/冊数
    102 p.
  • 大きさ
    30 cm
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