EUV光源の開発と応用

Author(s)

• 豊田, 浩一 トヨダ, コウイチ
• 岡崎, 信次 オカザキ, シンジ

Bibliographic Information

EUV光源の開発と応用

豊田浩一, 岡崎信次監修

シーエムシー出版, 2007.2

Other Title

Development and application of extreme ultraviolet light source

エレクトロニクス材料・技術シリーズ

Title Transcription

EUV コウゲン ノ カイハツ ト オウヨウ

Note

文献あり

カバーに「エレクトロニクス材料・技術シリーズ」の表記あり

Description and Table of Contents

Table of Contents

• 第１編　ＥＵＶ光源の開発（露光装置とＥＵＶリソグラフィ；ＥＵＶリソグラフィ用光源プラズマ；プラズマ励起用高出力固体レーザー開発の現状；究極の変換効率の超微粒子広域分散型ターゲットレーザー生成プラズマＸ線源　ほか）
• 第２編　ＥＵＶリソグラフィ用のマスクとレジスト技術（Ｘ線多層膜の物理；ＥＵＶ用反射型マスク基板；ＥＵＶ用マスク；ＥＵＶレジストの特異性と反応機構　ほか）

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Details

• NCID: BA83954282
• ISBN:
  • 9784882316664
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpn
• Place of Publication: 東京
• Pages/Volumes: vi, 273p
• Size: 27cm
• Classification:
  • NDC9 : 549.7
  • NDLC : ND386
• Subject Headings:
  • NDLSH : リソグラフィー