EUV光源の開発と応用

著者

• 豊田, 浩一 トヨダ, コウイチ
• 岡崎, 信次 オカザキ, シンジ

書誌事項

EUV光源の開発と応用

豊田浩一, 岡崎信次監修

シーエムシー出版, 2007.2

タイトル別名

Development and application of extreme ultraviolet light source

エレクトロニクス材料・技術シリーズ

タイトル読み

EUV コウゲン ノ カイハツ ト オウヨウ

注記

文献あり

カバーに「エレクトロニクス材料・技術シリーズ」の表記あり

内容説明・目次

目次

• 第１編　ＥＵＶ光源の開発（露光装置とＥＵＶリソグラフィ；ＥＵＶリソグラフィ用光源プラズマ；プラズマ励起用高出力固体レーザー開発の現状；究極の変換効率の超微粒子広域分散型ターゲットレーザー生成プラズマＸ線源　ほか）
• 第２編　ＥＵＶリソグラフィ用のマスクとレジスト技術（Ｘ線多層膜の物理；ＥＵＶ用反射型マスク基板；ＥＵＶ用マスク；ＥＵＶレジストの特異性と反応機構　ほか）

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA83954282
• ISBN:
  • 9784882316664
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: vi, 273p
• 大きさ: 27cm
• 分類:
  • NDC9 : 549.7
  • NDLC : ND386
• 件名:
  • NDLSH : リソグラフィー