書誌事項

中国商標実務基礎

魏啓学, 劉新宇編著

発明協会, 2008.5

タイトル読み

チュウゴク ショウヒョウ ジツム キソ

大学図書館所蔵 件 / 21

この図書・雑誌をさがす

内容説明・目次

内容説明

日本と中国の商標制度に精通した著者達が、日本の商標実務を考慮した上で、中国商標制度の変遷から現行法の特徴、さらには中国最高裁判所による司法解釈の機能や、著名商標を申請するメリット等、中国商標法独自の制度について分かり易く解説。

目次

  • 第1章 中国商標制度の概要
  • 第2章 商標登録
  • 第3章 商標の国際登録
  • 第4章 登録商標の使用、許諾、譲渡及び更新
  • 第5章 商標権侵害行為とその救済
  • 第6章 知的財産権に関する税関保護
  • 付録

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA86392291
  • ISBN
    • 9784827108972
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    v, 284p
  • 大きさ
    21cm
  • 分類
  • 件名
ページトップへ