触媒CVD(Cat-CVD)の新展開 : ラジカルを用いる新プロセス技術

著者

    • 中山, 弘 ナカヤマ, ヒロシ

書誌事項

触媒CVD(Cat-CVD)の新展開 : ラジカルを用いる新プロセス技術

中山弘監修

シーエムシー出版, 2008.10

タイトル別名

Recent developments of catalytic CVD (hot-wire CVD) : a new radical-based processing technology

エレクトロニクスシリーズ

触媒CVDCat-CVDの新展開 : ラジカルを用いる新プロセス技術

タイトル読み

ショクバイ CVD (CAT - CVD) ノ シン テンカイ : ラジカル オ モチイル シン プロセス ギジュツ

大学図書館所蔵 件 / 15

この図書・雑誌をさがす

注記

シリーズ名「エレクトロニクスシリーズ」はカバーによる

内容説明・目次

目次

  • 総論 Cat‐CVD法の誕生、期待とその課題(Cat‐CVD法の誕生;Cat‐CVD膜の特徴 ほか)
  • 第1章 基礎編(低温成膜の物理とCat‐CVD—フィラメント表面での化学反応の評価;気相中のラジカル種の定量 ほか)
  • 第2章 Cat‐CVD装置(大型Cat‐CVD装置;簡易型Cat‐CVD装置 ほか)
  • 第3章 応用編(SiN—LSIトランジスターへの応用;レジストエッチング—水素ラジカルによるレジスト除去 ほか)
  • 第4章 材料各論(アモルファスおよび微結晶Si;エピタキシャルSiC ほか)

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA87642033
  • ISBN
    • 9784781300399
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    v, 276p
  • 大きさ
    27cm
ページトップへ