触媒CVD(Cat-CVD)の新展開 : ラジカルを用いる新プロセス技術
著者
書誌事項
触媒CVD(Cat-CVD)の新展開 : ラジカルを用いる新プロセス技術
シーエムシー出版, 2008.10
- タイトル別名
-
Recent developments of catalytic CVD (hot-wire CVD) : a new radical-based processing technology
エレクトロニクスシリーズ
触媒CVDCat-CVDの新展開 : ラジカルを用いる新プロセス技術
- タイトル読み
-
ショクバイ CVD (CAT - CVD) ノ シン テンカイ : ラジカル オ モチイル シン プロセス ギジュツ
大学図書館所蔵 全15件
  青森
  岩手
  宮城
  秋田
  山形
  福島
  茨城
  栃木
  群馬
  埼玉
  千葉
  東京
  神奈川
  新潟
  富山
  石川
  福井
  山梨
  長野
  岐阜
  静岡
  愛知
  三重
  滋賀
  京都
  大阪
  兵庫
  奈良
  和歌山
  鳥取
  島根
  岡山
  広島
  山口
  徳島
  香川
  愛媛
  高知
  福岡
  佐賀
  長崎
  熊本
  大分
  宮崎
  鹿児島
  沖縄
  韓国
  中国
  タイ
  イギリス
  ドイツ
  スイス
  フランス
  ベルギー
  オランダ
  スウェーデン
  ノルウェー
  アメリカ
この図書・雑誌をさがす
注記
シリーズ名「エレクトロニクスシリーズ」はカバーによる
内容説明・目次
目次
- 総論 Cat‐CVD法の誕生、期待とその課題(Cat‐CVD法の誕生;Cat‐CVD膜の特徴 ほか)
- 第1章 基礎編(低温成膜の物理とCat‐CVD—フィラメント表面での化学反応の評価;気相中のラジカル種の定量 ほか)
- 第2章 Cat‐CVD装置(大型Cat‐CVD装置;簡易型Cat‐CVD装置 ほか)
- 第3章 応用編(SiN—LSIトランジスターへの応用;レジストエッチング—水素ラジカルによるレジスト除去 ほか)
- 第4章 材料各論(アモルファスおよび微結晶Si;エピタキシャルSiC ほか)
「BOOKデータベース」 より