極低速イオンビーム蒸着によるSi表面低次元相形成とエピタキシーの研究

Author(s)

• 生地, 文也 ショウジ, フミヤ
• 真田, 瑞穂 サナダ, ミズホ
• 内藤, 正路 ナイトウ, マサミチ
• 森元, 史朗 モリモト, シロウ
• 八尋, 秀一 ヤヒロ, シュウイチ

Bibliographic Information

極低速イオンビーム蒸着によるSi表面低次元相形成とエピタキシーの研究

研究代表者 生地文也

（科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書, 平成12-13年）

[九州共立大学], 2002.3

Other Title

平成12年度〜平成13年度科学研究費補助金(基盤研究(C)(2))研究成果報告書

Title Transcription

キョクテイソク イオン ビーム ジョウチャク ニ ヨル Si ヒョウメン テイジゲン ソウケイセイ ト エピタキシー ノ ケンキュウ

Note

研究課題番号:12650033

研究分担者:真田瑞穂, 内藤正路, 森元史朗, 八尋秀一

Details

• NCID: BA88457831
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpneng
• Place of Publication: [北九州]
• Pages/Volumes: 1冊
• Size: 30cm
• Parent Bibliography ID:
  • BA30195401