低周波プラズマCVDによるシリコン窒化膜の室温形成プロセスの開発

著者

• 下妻, 光夫 シモズマ, ミツオ

書誌事項

低周波プラズマCVDによるシリコン窒化膜の室温形成プロセスの開発

研究代表者 下妻光夫

（科学研究費補助金(試験研究2)研究成果報告書, 昭和62年度）

[北海道大学医療技術短期大学部], 1988.3

タイトル読み

テイシュウハ プラズマ CVD ニヨル シリコン チッカ マク ノ シツオン ケイセイ プロセス ノ カイハツ

注記

課題番号: 61850049

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BB01808581
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpneng
• 出版地: [札幌]
• ページ数/冊数: 145p
• 大きさ: 26cm
• 親書誌ID:
  • BA31269048