低周波プラズマCVD(TEOS+O[2])によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発

著者

• 伊達, 広行 ダテ, ヒロユキ

書誌事項

低周波プラズマCVD(TEOS+O[2])によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発

研究代表者 伊達広行

（科学研究費補助金(試験研究B(2))研究成果報告書, 平成5年度）

[北海道大学医療技術短期大学部], 1994.3

タイトル別名

低周波プラズマCVD(TEOS+O[2])によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発

タイトル読み

テイシュウハ プラズマ CVD TEOS+O[2] ニヨル シリコン サンカマク ノ テイオン ケイセイ プロセス カイハツ

注記

課題番号: 04555018

[2]は下付き文字

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BB01824227
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpneng
• 出版地: [札幌]
• ページ数/冊数: 141p
• 大きさ: 26cm
• 親書誌ID:
  • BN09452958