低周波プラズマCVD(TEOS+O[2])によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発

Author(s)

Bibliographic Information

低周波プラズマCVD(TEOS+O[2])によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発

研究代表者 伊達広行

（科学研究費補助金(試験研究B(2))研究成果報告書, 平成5年度）

[北海道大学医療技術短期大学部], 1994.3

Other Title

低周波プラズマCVD(TEOS+O[2])によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発

Title Transcription

テイシュウハ プラズマ CVD TEOS+O[2] ニヨル シリコン サンカマク ノ テイオン ケイセイ プロセス カイハツ

Available at  / 1 libraries

Search this Book/Journal

Note

課題番号: 04555018

[2]は下付き文字

Related Books： 1-1 of 1

Details

  • NCID
    BB01824227
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [札幌]
  • Pages/Volumes
    141p
  • Size
    26cm
  • Parent Bibliography ID
Page Top