Silicon oxycarbide films fabricated by using an atmospheric pressure microplasma jet : structural, optical and electrical characterizations 大気圧マイクロプラズマジェットにより作製したSiOC薄膜とその微細構造、光学・電気的物性評価

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Silicon oxycarbide films fabricated by using an atmospheric pressure microplasma jet : structural, optical and electrical characterizations = 大気圧マイクロプラズマジェットにより作製したSiOC薄膜とその微細構造、光学・電気的物性評価

丁毅

丁毅, 2010.3

Title Transcription

Silicon oxycarbide films fabricated by using an atmospheric pressure microplasma jet : structural, optical and electrical characterizations = タイキアツ マイクロプラズマ ジェット ニヨリ サクセイ シタ SiOC ハクマク ト ソノ ビサイ コウゾウ コウガク デンキテキ ブッセイ ヒョウカ

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Thesis(doctral)--Saitama University, 2010 博理工甲第777号

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Details

  • NCID
    BB03511619
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    eng
  • Text Language Code
    eng
  • Place of Publication
    [Saitama]
  • Pages/Volumes
    viii, 142 leaves
  • Size
    31 cm
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