分子線エピタキシにおける化合物半導体の成長過程と成長層の特性

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分子線エピタキシにおける化合物半導体の成長過程と成長層の特性

大野英男研究代表者

（科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書, 平成10-11年度）

[大野英男], 2000.3

Other Title

平成10-11年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書(研究課題番号10450002)

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ブンシセン エピタキシ ニオケル カゴウブツ ハンドウタイ ノ セイチョウ カテイ ト セイチョウソウ ノ トクセイ

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Details

  • NCID
    BB03539367
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [仙台]
  • Pages/Volumes
    49p
  • Size
    30cm
  • Parent Bibliography ID
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