高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成
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高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成
（科学研究費補助金(基盤研究C)研究成果報告書, 平成17年度-平成18年度）
[九州工業大学], 2007.4
- タイトル読み
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コウミツド ラジカル ショリホウ ニヨル キバン ヒョウメン ノ チョウシンスイカ ト コウヒンシツ ゼツエンマク ノ ケイセイ
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注記
課題番号: 17560009
平成17年度～平成18年度科学研究費補助金(基盤研究(C))研究成果報告書
参考文献: 各論末