高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成

Author(s)

    • 和泉, 亮 イズミ, アキラ

Bibliographic Information

高密度ラジカル処理法による基板表面の超親水化と高品質絶縁膜の形成

和泉亮研究代表

（科学研究費補助金(基盤研究C)研究成果報告書, 平成17年度-平成18年度）

[九州工業大学], 2007.4

Title Transcription

コウミツド ラジカル ショリホウ ニヨル キバン ヒョウメン ノ チョウシンスイカ ト コウヒンシツ ゼツエンマク ノ ケイセイ

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Note

課題番号: 17560009

平成17年度～平成18年度科学研究費補助金(基盤研究(C))研究成果報告書

参考文献: 各論末

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Details

  • NCID
    BB06074645
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [北九州]
  • Pages/Volumes
    44p
  • Size
    30cm
  • Parent Bibliography ID
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