段階投資型半導体生産ラインを実現するプロセスガス解離完全制御プラズマプロセス技術

Author(s)

• 大見, 忠弘 オオミ, タダヒロ
• 平山, 昌樹 ヒラヤマ, マサキ

Bibliographic Information

段階投資型半導体生産ラインを実現するプロセスガス解離完全制御プラズマプロセス技術

研究代表者 大見忠弘

（科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書, 平成12年度-平成13年度）

[大見忠弘], 2002.3

Title Transcription

ダンカイ トウシガタ ハンドウタイ セイサン ライン オ ジツゲン スル プロセスガス カイリ カンゼン セイギョ プラズマプロセス ギジュツ

Note

研究分担者: 平山昌樹

• NCID: BB06305362
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpneng
• Place of Publication: [仙台]
• Pages/Volumes: 74p
• Size: 30cm
• Parent Bibliography ID:
  • BA30195718