段階投資型半導体生産ラインを実現するプロセスガス解離完全制御プラズマプロセス技術

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段階投資型半導体生産ラインを実現するプロセスガス解離完全制御プラズマプロセス技術

研究代表者 大見忠弘

(科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書, 平成12年度-平成13年度)

[大見忠弘], 2002.3

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ダンカイ トウシガタ ハンドウタイ セイサン ライン オ ジツゲン スル プロセスガス カイリ カンゼン セイギョ プラズマプロセス ギジュツ

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研究分担者: 平山昌樹

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  • NCID
    BB06305362
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [仙台]
  • Pages/Volumes
    74p
  • Size
    30cm
  • Parent Bibliography ID
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