段階投資型半導体生産ラインを実現するプロセスガス解離完全制御プラズマプロセス技術

著者

• 大見, 忠弘 オオミ, タダヒロ
• 平山, 昌樹 ヒラヤマ, マサキ

書誌事項

段階投資型半導体生産ラインを実現するプロセスガス解離完全制御プラズマプロセス技術

研究代表者 大見忠弘

（科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書, 平成12年度-平成13年度）

[大見忠弘], 2002.3

タイトル読み

ダンカイ トウシガタ ハンドウタイ セイサン ライン オ ジツゲン スル プロセスガス カイリ カンゼン セイギョ プラズマプロセス ギジュツ

注記

研究分担者: 平山昌樹

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BB06305362
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpneng
• 出版地: [仙台]
• ページ数/冊数: 74p
• 大きさ: 30cm
• 親書誌ID:
  • BA30195718