化学的機械研磨(CMP)プロセスにおける微粒子ダイナミクスの解明

著者

• 宝沢, 光紀 ホウザワ, ミツノリ

書誌事項

化学的機械研磨(CMP)プロセスにおける微粒子ダイナミクスの解明

研究代表者 宝沢光紀

（科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書, 平成11年度-平成13年度）

[宝沢光紀], 2002.3

タイトル読み

カガクテキ キカイ ケンマ (CMP) プロセス ニオケル ビリュウシ ダイナミクス ノ カイメイ

注記

課題番号: 11450288

• NII書誌ID(NCID): BB06325869
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: [仙台]
• ページ数/冊数: 61p
• 大きさ: 30cm
• 親書誌ID:
  • BA30193701