ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術 : 成膜技術と膜・界面の物性科学

著者

    • 岩井, 洋 イワイ, ヒロシ

書誌事項

ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術 : 成膜技術と膜・界面の物性科学

岩井洋 [ほか著]

エヌ・ティー・エス, 2012.7

タイトル別名

ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術

ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術 : 成膜技術と膜界面の物性科学

タイトル読み

ナノエレクトロニクス ニ オケル ゼツエン チョウハクマク ギジュツ : セイマク ギジュツ ト マク カイメン ノ ブッセイ カガク

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注記

著者のヨミは推定による

参考・引用文献: 各章末

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BB09682498
  • ISBN
    • 9784864690393
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    22, 2, 4, 338, 11p
  • 大きさ
    27cm
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