液浸リソグラフィのプロセスと材料

著者

    • 東木, 達彦 ヒガシキ,タツヒコ

書誌事項

液浸リソグラフィのプロセスと材料

東木達彦監修

(CMCテクニカルライブラリー, 432 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ)

シーエムシー出版, 2012.8

普及版

タイトル別名

Process and Ingredient of Immersion Lithography

タイトル読み

エキシン リソグラフィ ノ プロセス ト ザイリョウ

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注記

「液浸リソグラフィのプロセスと材料」(2006年刊)の普及版

文献あり

内容説明・目次

目次

  • 液浸リソグラフィーとは
  • 液浸露光用塗布現像装置
  • レチクル技術
  • 液浸リソグラフィの光学系
  • 液浸露光装置の開発
  • 液浸用レジストの開発
  • 液浸用トップコート材料
  • 液浸レジスト材料の評価
  • 含フッ素樹脂のリソグラフィ分野への応用
  • 偏光照明技術
  • 高NA投影レンズの開発
  • 次世代液浸露光用高屈折率液体の開発
  • 次世代液浸リソグラフィの光学系
  • 32nmハーフピッチに向けた今後のリソグラフィ展開

「BOOKデータベース」 より

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BB09913364
  • ISBN
    • 9784781305509
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    v, 243p
  • 大きさ
    26cm
  • 分類
  • 件名
  • 親書誌ID
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