放射光励起ガスソースCVDによる高誘電体薄膜の低温形成
著者
書誌事項
放射光励起ガスソースCVDによる高誘電体薄膜の低温形成
(科学研究費補助金(一般研究(B))研究成果報告書, 平成5年度)
[庭野道夫], 1994.3
- タイトル別名
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平成5年度科学研究費補助金一般研究(B)研究成果報告書(課題番号03452149)
- タイトル読み
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ホウシャコウ レイキ ガスソース CVD ニヨル コウユウデンタイ ハクマク ノ テイオン ケイセイ
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